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    X射線光電子能譜儀的用途有哪些?

    發布時間:2022-08-31 點擊次數:923

    X射線光電子能譜儀(XPS)基于光電效應,采用X射線激發被測樣品表面納米尺度內的原子發射光電子,通過系統探測其所發射光電子的動能等信息,進而實現樣品表面的元素組成及化學鍵狀態的定性和定量分析,能進行最外層表面區域的分析,能進行除H和He以外所有元素的分析,靈敏度高,具備化學組成、價態、深度剖析及成像、功函數特性的分析與表征功能。

    X射線光電子能譜儀

    XPS是當代譜學領域中最活躍的分支之一, 雖然只有十幾年的歷史, 但其發展速度很快,在電子工業、 化學化工、 能源、 冶金、 生物醫學和環境中得到了廣泛應用。 除了可以根據測得的電子結合能確定樣品的化學成份外, XPS最重要的應用在于確定元素的化合狀態。

     

    XPS主要用途

    1) 固體樣品的表面組成分析, 化學狀態分析。

    2) 元素成分的深度分析( 角 分辨方式、 氬離子或C60刻蝕方式)。 深度分析適

    合研究: 納米薄膜材料, 微電子材料, 催化劑, 摩擦化學, 高分子材料的表面和界

    面研究。

    (3) 可進行樣品表面的微區分析, 分析面積可小至 10 nm。

     

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